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ソウル半導体社を名誉毀損で提訴

2007年12月28日、日亜化学工業株式会社は、ソウル中央地方裁判所に、韓国のSeoul Semiconductor Co., Ltd. (以下「ソウル半導体社」という)に対して、名誉毀損に関する損害賠償請求訴訟を提起いたしました。

今回の訴訟は、2006年1月に日亜がソウル半導体社を相手取って米国カリフォルニア州北部地区連邦地方裁判所に提起した意匠権侵害訴訟における陪審員評決に関連して、虚偽の事実をソウル半導体社がマスコミ関係者らに流布し、日亜の名誉を毀損したとの日亜の判断に基づくものです。

2007年11月8日、米国カリフォルニア州北部地区連邦地方裁判所において、日亜の保有している4件の米国意匠権をソウル半導体社が故意に侵害したとの陪審員評決が下りました。この評決を受けた同裁判所の判決(judgment)は2008年1月頃に出されるものと日亜は予想しております。

ソウル半導体社は、このような事実にもかかわらず、「事実上の非侵害が認められ、今回の訴訟でソウル半導体が勝訴しました」という内容の虚偽事実をソウル半導体のホームページに掲載する一方、マスコミ関係者にも同じ内容の報道資料を配布したものと日亜は考えております。

これに対して、日亜は、ソウル半導体社に名誉毀損による損害賠償金5億ウォン(日本円でおよそ6千万円)の支払いと、毀損された名誉回復に必要な措置を請求するために提訴いたしました。