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韓国裁判所でソウル半導体社の日亜に対する名誉毀損を認める判決

2008年8月27日、ソウル中央地方裁判所は、日亜化学工業株式会社(「日亜」)が昨年12月28日に提起した、Seoul Semiconductor Co., Ltd.(「ソウル半導体社」)に対する名誉毀損に基づく損害賠償等請求事件に関して、ソウル半導体社が日亜の名誉を毀損したと認め、ソウル半導体に1,000万ウォンの損害賠償金の支払いとその名誉回復のための適当な措置を命じる判決を言渡しました。

この訴訟は、2006年1月に日亜がソウル半導体社を相手取って米国カリフォルニア州北部地区連邦地方裁判所に提起した意匠権侵害訴訟における陪審員評決に関連して、虚偽の事実をソウル半導体社がマスコミ関係者らに流布し、日亜の名誉を毀損したとして日亜が提起したものです。

2007年11月8日、米国カリフォルニア州北部地区連邦地方裁判所において、日亜の保有している4件の米国意匠権をソウル半導体社が故意に侵害したとの陪審員評決が下りました。この評決を受けた同裁判所の判決(judgment)は2008年2月7日に出されました。ソウル半導体社は、このような事実にもかかわらず、「事実上の非侵害が認められ、今回の訴訟でソウル半導体が勝訴しました」という内容の虚偽事実をソウル半導体のホームページに掲載する一方、同じ内容の報道資料を記者に配布しました。

日亜としましては、このような明らかな虚偽の流布に対し、正当な判決が下されたことを歓迎いたします。