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真空蒸着材料

顕微鏡・銀塩カメラなどの光学製品から、光通信・半導体・DVD・プロジェクターなどのエレクトロニクス分野まで、光テクノロジーは21世紀のイノベーションを加速させてきました。それを支える要素技術の一つが、光学薄膜技術です。NICHIAでは長年培ってきた蛍光体をはじめとする、無機セラミックパウダーの製造・応用技術を発展させ、高品位な光学薄膜を作るのに適した蒸着材料をラインナップしています。

真空蒸着材料

高屈折材料

No. 形状 サイズ 包装単位 特徴
Ta2O5Ta2O5 7108-0312 グラニュール 0.5~2.0mm 1.0kg 突沸等の急激な
成膜レート変動を抑制
Ti3O5Ti3O5 7104-0013 グラニュール 0.5~2.8mm 1.0kg 完全な単一組成により
スプラッシュ発生を抑制
7104-0045 0.1~1.7mm
TiOTiO 7102-0013 グラニュール 0.5~2.8mm 1.0kg 完全な単一組成により
スプラッシュ発生を抑制
7102-0018 1.0~4.0mm
Nb2O5Nb2O5 7121-0113 グラニュール 0.5~2.8mm 1.0kg 突沸等の急激な
成膜レート変動を抑制

その他の材料

No. 形状 サイズ 包装単位 特徴
SiOSiO 7105-0000 グラニュール 2.0〜4.0mm 1.0kg 自社合成の
高品位SiOを使用
7105-0002 4.0〜8.0mm
SiOSiO 7005-1210 ペレット φ18×7t 100個 成膜レートが、低レートから
高レートまで広範囲に
わたり安定。自動給材機で
使用可能な材料強度