その他
化合物半導体材料
高純度ガリウムは、LEDやLD用基板など化合物半導体の原料として使用されています。赤外LEDエピウエハーは、高出力かつ高速応答の赤外LED用として監視カメラやセンサーといったセキュリティーシステムや、様々な機器の高速フォトカプラーなどに広く利用されています。
高純度ガリウムメタル
ガリウムは、LEDやLD、GaAs基板やGaN基板、ドーパント等に広く使用されており、半導体の製造には欠かせない金属です。また、パワー半導体の次世代材料としてもガリウムの使用が見込まれており、先端技術を支える重要なレアメタルとして注目されています。NICHIAでは、お客様のご要望に応じ、様々な純度、重量、形状等に対応いたします。
| 製品名 | ガリウムメタル |
|---|---|
| 化学式 | Ga |
| CAS No. | 7440-55-3 |
| 融点 | 29.78℃ |
| 純度 | 6N (99.9999%) 7N (99.99999%) |
| 重量(/個) | 1g～2,500g |
| 形状 | ショット、インゴット、ボトル |
ガリウムメタルリサイクル事業
NICHIA では、限りある資源を効率的に利用するため、ガリウム含有スクラップからガリウムメタルを抽出・精製するリサイクル事業も行っております。
GaAlAsエピタキシャルウエハー
NICHIAのGaAlAsエピタキシャルウエハーは、GaAs基板上に、液相エピタキシャル成長法（LPE：liquid-phase epitaxy）を用いて結晶成長を行っています。赤外LEDチップの原材料として使用され、代表例としてセンサー、高速フォトカプラー、オキシメーター等に広く使用されております。
| 成長法 | 液相エピタキシャル成長法 (LPE：Liquid-phase Epitaxy) |
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|---|---|---|---|
| 波長 | 730～910nm | ||
| サイズ | 2 inch、3 inch |
